Mikroskopische Untersuchung von Nanopartikel-beschichtetem Siliziumwafer zur Verbesserung der Halbleitereffizienz (2023, Deutschland)

Mikroskopische Untersuchung von Nanopartikel-beschichtetem Siliziumwafer zur Verbesserung der Halbleitereffizienz (2023, Deutschland)
Die Aufnahme zeigt eine mikroskopische Nahaufnahme der Oberfläche eines Siliziumwafers, der mit einer Schicht aus selbstorganisierenden Nanopartikeln modifiziert wurde. Die gleichmäßige Anordnung der Partikel erzeugt ein regelmäßiges Muster, das die Lichtbrechung beeinflusst und einen schimmernden Effekt erzeugt. Im Hintergrund sind die feinen Verästelungen der kristallinen Struktur des Siliziums sichtbar, die in subtilen Grautönen variieren. Die Aufnahme wurde in einem Labor in Deutschland im Jahr 2023 gemacht und dokumentiert die Fortschritte in der Oberflächenmodifikation zur Verbesserung der Effizienz von Halbleiterbauelementen.